SEMICONDUCTOR
INONA NO atao hoe SEMICONDUCTOR?
Ny fitaovana semiconductor dia singa elektronika izay mampiasa conduction elektrika saingy manana toetra eo anelanelan'ny conducteur, ohatra ny varahina, sy ny an'ny insulator, toy ny fitaratra. Ireo fitaovana ireo dia mampiasa conduction elektrika amin'ny fanjakana matanjaka fa tsy amin'ny entona entona na thermionic emission ao anaty banga, ary nosoloiny ny fantsona vacuum amin'ny ankamaroan'ny fampiharana maoderina.
Ny fampiasana matetika ny semiconductor dia amin'ny chips circuit integrated. Ny fitaovantsika informatika maoderina, anisan'izany ny finday sy ny takelaka, dia mety ahitana semiconductor bitika an'arivo tapitrisany maro mitambatra amin'ny puce tokana mifamatotra amin'ny wafer semiconductor tokana.
Ny conductivity ny semiconductor dia azo ovaina amin'ny fomba maro, toy ny fampidirana sahan-jiro na andriamby, amin'ny fampiharihariana azy amin'ny hazavana na hafanana, na noho ny fiovaovan'ny mekanika amin'ny doped monocrystalline silicon grid. Na dia amin'ny antsipiriany aza ny fanazavana ara-teknika, ny fanodinkodinana ny semiconductor no nahatonga ny revolisiona nomerika misy antsika ankehitriny.
AHOANA NO AMPIASAINA NY ALUMINIUM AMIN'NY SEMICONDUCTORS?
Aluminum dia manana fananana maro izay mahatonga azy ho safidy voalohany ampiasaina amin'ny semiconductor sy microchips. Ohatra, ny aluminium dia manana adhesion tsara kokoa amin'ny dioxide silisiôma, singa lehibe amin'ny semiconductors (eo no nahazoan'ny Silicon Valley ny anarany). Ny fananana elektrika, izany hoe manana fanoherana elektrika ambany izy ary mahatonga ny fifandraisana tsara amin'ny fatorana tariby, dia tombony hafa amin'ny aluminium. Zava-dehibe ihany koa ny hoe mora ny manamboatra aluminium amin'ny fizotran'ny etch maina, dingana lehibe amin'ny fanaovana semiconductor. Raha metaly hafa, toy ny varahina sy volafotsy, dia manome fanoherana tsara kokoa amin'ny harafesina sy ny hamafin'ny herinaratra, dia lafo kokoa noho ny aliminioma izy ireo.
Ny iray amin'ireo fampiharana mahazatra indrindra amin'ny aluminium amin'ny famokarana semiconductor dia eo amin'ny dingan'ny teknolojia sputtering. Ny fametahana manify ny hatevin'ny nano amin'ny metaly madio sy silisiôma amin'ny wafers microprocessor dia vita amin'ny alàlan'ny dingan'ny fametrahana etona ara-batana antsoina hoe sputtering. Ny fitaovana dia avoaka avy amin'ny kendrena ary apetraka amin'ny sosona silisiôna substrate ao anaty efitrano banga izay feno entona mba hanamora ny fomba fiasa; matetika dia gazy inert toy ny argon.
Ny takelaka fanohanana ho an'ireo tanjona ireo dia vita amin'ny aluminium miaraka amin'ny fitaovana madio indrindra ho an'ny fametrahana, toy ny tantalum, varahina, titane, tungstène na 99.9999% aluminium madio, mifamatotra amin'ny endriny. Photoelectric na chimique etching amin'ny substrate conductive surface dia mamorona ny lamina microscopique circuitry ampiasaina amin'ny asan'ny semiconductor.
Ny firaka aluminium mahazatra indrindra amin'ny fanodinana semiconductor dia 6061. Mba hiantohana ny fampandehanana tsara indrindra amin'ny firaka, amin'ny ankapobeny dia misy sosona anodized miaro amin'ny alàlan'ny metaly, izay hampitombo ny fanoherana ny harafesina.
Noho izy ireo fitaovana mazava tsara, ny harafesina sy ny olana hafa dia tsy maintsy arahina akaiky. Antony maromaro no hita fa mahatonga ny harafesina amin'ny fitaovana semiconductor, ohatra ny fametahana azy ireo amin'ny plastika.